iSac Research Inc.
ALD System&Nano Coating Service

AEMPはiSac Research社のAtomic Layer Deposition(ALD)装置及び
ナノコーティングサービスの営業コンサルタントをしております。

iSac Research Atomic Layer Deposition装置
iOV e100

iOVe100.jpg

装置サイズ
(L×W×H mm)
チャンバー(600×1000×930)
制御ラック(750×600×1200)
対象基板 < 300×300mm
プロセス温度 < 400℃±3℃
ヒーター制御 3ゾーン(or 5ゾーン)
液体ソースライン 3種(Option)
反応ガスライン 2種(Option)
使用電力 AC220V(2p)、Max50A、Heater(30A)

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iSac Research社

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お問い合わせメール:saitoh@isacresearch.com
担当:iSac 齋藤 規夫
TEL:090-5404-7100