iSac Research Inc.
ALD System＆Nano Coating Service
AEMPはiSac Research社のAtomic Layer Deposition（ALD）装置及び
ナノコーティングサービスの営業コンサルタントをしております。
| iSac Research Atomic Layer Deposition装置 iOV e100 |
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| 装置サイズ （L×W×H mm） |
チャンバー（600×1000×930） 制御ラック(750×600×1200） |
| 対象基板 | ＜ 300×300mm |
| プロセス温度 | ＜ 400℃±3℃ |
| ヒーター制御 | 3ゾーン（or 5ゾーン） |
| 液体ソースライン | 3種（Option） |
| 反応ガスライン | 2種（Option） |
| 使用電力 | AC220V（2p)、Max50A、Heater（30A） |
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担当：iSac 齋藤 規夫
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